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삼성전자의 미래핵심기술 EUV 종목 선택과 집중의 시기

피셔인베스트 후원하기 투네이션 https://toon.at/donate/63695590777039... 우리은행 1002-942-546994 박*협 상담메일:[email protected] 네이버 카페 그월급에 잠이오니 : https://cafe.naver.com/hyup4674 반도체를 만들때 제일 먼저 실리콘을 길다란 원통모양으로 만들고 잘게 잘라서 원판으로 만들죠 이걸 웨이퍼라고 합니다. 그리고 실리콘 표면에 앏은 산화막을 만들어서 전기가 통하게 만들어주면 실리콘은 전기가 안통하는 부도체 산화막은 전기가 통하는 도체 이래서 반도체 웨이퍼가 만들어집니다.  이제 산화막에 회로패턴을 새겨서 산화막의 일부만 벗겨내야하는데요 우선 마스크에 회로 모양 설계를 합니다. 그리고 아까만든 웨이퍼 산화막 표면에 빛을 막아주거나 빛에 반응하는 감광액을 바릅니다. 이제 마스크 뒤에서 빛을 쏘고 렌즈로 작게 패턴을 쏘여주는데요 이걸 포토리소그래피 라고 부릅니다. 그러면 작은반도체에 회로패턴이 그대로 그려지겠지요?   euv 기술은 여기서 쓰이는데요 현재 주로 쓰이는 노광기술은 duv 라고 불리우는 딥울트라 바이올렛 광선으로 패턴을 새기는 방식입니다. 불화아르곤광선을 이용하고 195나노에서 수막을 통과시켜 약 135나노 수준으로 패턴을 그릴수 있다고 알려져있는데요 이런 복잡한 설명이 아니라도 그림을 보시면 euv 로 넘어갈수록 미세하게 패턴이 그려지죠? 그대로 입니다.   그런데 euv 공정은 대량 양산에서 비용적인 측면에서 경제성이 다소 부족하기 때문에 현재의 duv 방식으로는 euv 처럼 미세한 패턴을 그리기 위해서 보여드리는 그림처럼 막을 쌓아서 계속 깍아내려가는 방식으로 미세한 패턴을 그려내고 있습니다. 이게 핵심인데요 오늘 우리가 알아볼 euv 방식은 기존 duv 방식에 비해서 약 1/ 14 수준인 13.5 나노 미터로 파장이 작아서 복잡한 과정없이 마스크에 새겨진 회로 패턴을 한방에 찍어낼 수 있습니다   우선 euv 의 핵심인 노광장비는 전세계적으로 네덜란드 기업 asml이 독점으로 생산합니다. 그나마 duv 에서 경쟁사는 니콘과 캐논이 있습니다. 캐논은 반도체용 노광 장비를 생산할 수는 있으나 디스플레이용 장비에 더 집중하고 있는 추세이다. 캐논은 과거 전통적 노광 장비 분야에서 일정한 점유율을 갖고 있었으나 ArF 세대에선 제품 개발에 실패해 사실상 시장에서 퇴출 극자외선(EUV) 노광 기술 역시 상용화가 어려울 것이라고 판단, 연구개발(R&D)을 포기 nil 이라고 불리는 나노임프린트리소그래피 기술은 계속개발중이라고 하는데 뚜렷한 성과는 나오지 않은 상태입니다. 다만 nil 방식은 euv 방식에 비해 패턴형성자유도가 떨어지는것으로 평가되어 cpu 및 디램 분야에서는 사용하기 어려울것으로 알려지고 있습니다. 니콘은 반도체 제조장치와 시장이 축소하는 카메라 사업을 중심으로 인력을 줄이고 의료기기를 비롯한 신사업을 발굴하고 있습니다. 결국 euv 노광장비는 asml 이 절대적인 독점을 유지할 것으로 보입니다. 현재 삼성,sk하이닉스 tsmc, 인텔 ,마이크론 등에서 수요는 많은데 공급이 부족한 상황입니다. 이제 국산기업들을 알아볼건데요 대표적으로 에프에스티, 에스앤에스텍, 동진쎄미켐이 있습니다. 에프에스티 와 에스엔에스텍은 euv 용 펠리클을 개발중이고 동진쎄미켐은 euv 용 포토레지스트를 개발중 입니다.